价值投资日志光刻胶：芯片制造核心材料核心逻辑：AI先进制程（7nm/5nm/3

雷频说商业 2026-04-18 10:59:44

价值投资日志光刻胶：芯片制造核心材料核心逻辑：AI先进制程（7nm/5nm/3nm）带动高端光刻胶（ArF/EUV）需求，国产替代加速。- 南大光电（300346）- 国内唯一实现28nm ArF光刻胶量产，良率99.7%- 订单：中芯国际百吨级订单落地，大基金三期加持- 鼎龙股份（300054）- 高端光刻胶量产线投产，打破日美垄断- 雅克科技（002409）- 光刻胶配套材料（显影液、特种气体）龙头

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