荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 中芯国际在二零一八年向 ASML 下过 EUV 光刻机订单，原本计划二零一九年走完交付流程，时至今日设备仍无法入境，不存在运输难题，也没有资金纠纷，核心卡点就是出口许可被政治力量反复干预。 美国长期向荷兰施压，要求限制对华出口 EUV，后续还将部分 DUV 设备纳入管控，荷兰一开始本就有犹豫，中国市场的巨大收益，曾给 ASML 贡献过很高比例的收入。 但最终还是选择配合限制，甚至出现过撤销许可的情况，这件事对ASML的影响，在今年3月的市场表现里也能看到：股价走弱、市值缩水。 ASML 高层在公开表态里也承认，出口限制带来的损害并非单边的，既影响到中国合作客户，也伤及西方企业自身利益，客观上还会推动中国加速自研。 话听着像外交辞令，但从趋势看确实如此，因为被卡住的不只是“买机器”，还有后续的维护、备件、软件支持。 有的服务要走审批流程，周期很长，甚至可能被直接拒绝，一旦关键环节断掉，产线就只能停着等，这种不确定性对任何制造业都是硬伤。 也正因为这种现实冲击，我国在光刻机领域的研发与资金投入明显提速，公开数据显示相关投入年增速超百分之二十，全社会研发经费投入强度升至百分之二点八，并设定继续增长目标。 大基金三期规模达到 930 亿元，重点布局设备制造和材料供应赛道，多个重点区域出台税收减免、研发扶持政策，临港新片区面向相关企业给到所得税优惠等。 简单说，过去很多人觉得“买现成设备更省事”，现在被迫重新算账：核心能力不能完全依赖外部供应，EUV光刻机之所以难，不是因为某一个零件难，而是系统级难题。 一台 EUV 设备涉及十几万个零部件，依靠全球多国产业链协同配合，覆盖光源、反射镜、精密运动平台、控制系统、真空系统、材料和各类软件，每一个关键部分都要做到极高稳定性。 ASML之所以能做起来，也依赖全球多国长期积累，现在外部供应链不稳定，中国就只能把关键环节拆开，一个个啃，这几年国内相关企业和机构的进展，也越来越密集。 比如哈尔滨工业大学，在 13.5 纳米波长 EUV 光源研发赛道取得重大进展，这款核心光刻光源被全球行业视作，EUV 设备完整系统的核心部件之一。 在上游材料和光学器件方面，福晶科技在激光晶体领域拥有扎实的生产供应实力，全球市场占有率位居行业前列，还成功纳入 ASML 的供应体系，是其中的重要参与方。 茂莱光学在二十八纳米DUV物镜国产替代方面推进较快，国产化替代水平达到六成，单台价值达五千万元量级；南大光电成功量产二十八纳米ArF光刻胶，整体良率高于九成，在一定程度上打破了日本企业的长期垄断。 设备端也有进展，上海微电子在 90 纳米 ArF 光刻机上实现稳定量产，斩获过亿元级别的大额订单，28 纳米浸没式产品完成量产测试，说明设备能力在向更高水平推进。 其子公司还中标合肥8.6代AMOLED生产线项目，意味着应用场景不只局限在传统逻辑芯片，也在向更广的显示制造等领域拓展，除了沿着EUV路线推进，国内也在探索不完全依赖EUV的替代路径。 浙大量子研究院的 “羲之” 电子束光刻机已进入应用测试阶段，官方公示的性能指标精度 0.6 纳米、线宽 8 纳米，当前电子束光刻要大规模量产依旧存在效率难题，但它至少提供了另一条技术方向。 更实用的路线则是依托现有的 DUV 光刻设备，搭配多重曝光的加工工艺，目前已能稳定量产 7 纳米芯片，虽会拉高生产成本、让制程更繁琐，却能成功造出芯片，也能形成持续供货。 对ASML来说，失去中国市场不是一句“少卖几台设备”这么简单，EUV单台利润很高，但制造周期长、供应链协调成本大，客户结构变化会带来产能与现金流压力。 中国又是全球最大的芯片消费国，需求不可能因为封锁消失，只会推动国内替代更快成熟，当前28纳米DUV已经能覆盖汽车电子、物联网等大量实际需求，7纳米也有可行的工程化路径。 中国并不是一上来就赌EUV，而是先把成熟制程、关键零部件、材料体系一步步补齐，再往高端逼近，距离完全具备EUV整机能力还有路要走，但封锁越久，替代方案就越扎实，核心技术从来都买不来，只能靠自己。
