荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 其实早在2018年，中芯国际就曾向ASML订过一台EUV光刻机，本来预计2019年就能交付，可到现在，这台机器也没能送到中国企业手里。 原因很简单，美国从中作梗，不断向荷兰政府施压，要求禁止ASML向中国出口EUV光刻机，后来甚至连部分DUV光刻机的出口，都被美国盯上了。 ASML虽说顶着荷兰巨头的名头，手里握着EUV光刻机的全球垄断权，但它根本算不上真正的“自主”。这台被称为“人类工业皇冠上的明珠”的设备，核心技术和关键零部件大多依赖美国，比如光源系统、精密传感器这些最核心的部分，全是美国企业提供的。 美国只要掐断这些零部件的供应，ASML的生产线就会立刻停摆，更别说向中国出口设备了。说白了，ASML就是个“组装厂”，把全球最好的零件拼在一起，却被美国攥住了命脉，只能乖乖听话，哪怕放弃中国这个庞大的市场，也不敢违抗美国的命令。 美国这么费尽心机地封锁，目的再直白不过，就是要卡中国半导体产业的脖子。半导体是现代工业的“心脏”，小到手机、电脑，大到新能源汽车、航空航天，没有一样离得开芯片，而EUV光刻机就是制造7nm及以下高端芯片的唯一设备。 美国就是想通过禁止出口这种设备，让中国永远只能在中低端芯片领域打转，无法突破高端芯片技术，进而遏制中国的科技发展和产业升级，保住自己在全球半导体领域的霸权地位，让中国永远被它牵着鼻子走。 可美国显然低估了中国的韧性，也忘了中国从来不是那种被轻易打垮的国家——你越封锁，我们越要争气。ASML放话说中企获取EUV几乎不可能，可中国压根没打算一直依赖进口，这些年在光刻机研发上的投入，一年比一年多，增速常年保持在20%以上，这份坚持，可不是嘴上说说那么简单。 要知道，研发光刻机是个烧钱又耗时的苦差事，一台EUV光刻机的造价就高达上亿美元，研发过程中要攻克精密机械、光学系统、软件控制等无数个技术难关，每个环节都需要长期的技术积累，没有足够的资金和耐心，根本坚持不下来。 但中国做到了，不管是国家层面的政策扶持，还是企业层面的自主攻关，都在全力以赴。中芯国际作为国内半导体行业的龙头，哪怕常年面临美国的制裁，营收受到不小影响，也从来没缩减过研发开支，每年都拿出巨额资金投入到技术突破中，一步步夯实自己的工艺基础。 除了中芯国际，国内还有一大批企业在默默发力，比如上海微电子，虽然目前还没能造出EUV光刻机，但已经在DUV光刻机领域实现了突破，量产了中低端DUV设备，打破了国外企业的垄断，让中国在光刻机领域有了自己的立足之地。 更值得一提的是，我们不光在整机研发上发力，还在一点点突破核心零部件的技术壁垒。 过去，光刻机的核心零部件，比如光刻胶、精密陶瓷导轨、轴承等，全被美日等国垄断，我们想买都买不到。可现在，国内企业已经陆续实现了部分零部件的国产化，比如淄博的企业已经研发出性能比肩国际的光刻机用陶瓷导轨，填补了国内空白，不用再被国外卡脖子。这些看似微小的突破，一点点积累起来，就是我们打破垄断的底气。 可能有人会说，中国现在研发的DUV光刻机，和ASML的EUV比起来还有很大差距，根本不够看。但要知道，科技突破从来不是一蹴而就的，一口吃不成胖子。当年中国研发原子弹、氢弹，也是从无到有，从落后到先进，一步步熬过来的；现在研发光刻机，也是一样的道理。我们现在虽然没有EUV，但通过优化DUV的技术，已经能实现7nm芯片的量产，这在几年前，还是很多人认为不可能实现的事情，这就是我们投入的价值，也是我们韧性的体现。 美国的封锁，看似给中国半导体产业带来了巨大的困难，让我们走了很多弯路，但从另一个角度来说，也倒逼中国加快了自主研发的步伐。如果没有美国的封锁，可能我们还会抱有侥幸心理，依赖进口设备，不会这么快下定决心，投入这么多资源去研发自主的光刻机。现在好了，我们没有退路，只能一条路走到黑，而这种破釜沉舟的决心，恰恰是我们突破技术封锁的最大动力。 ASML其实心里也清楚，中国的研发能力不容小觑。只要中国一直坚持下去，持续投入研发，总有一天能突破EUV光刻机的技术难关。到那个时候，ASML失去的就不仅仅是中国这个庞大的市场，还有全球光刻机行业的垄断地位。 现在的局面，就是美国拼尽全力封锁，中国拼尽全力突破，双方的博弈，说到底就是技术实力的较量。美国想靠技术垄断保住霸权，中国想靠自主研发赢得主动权，谁能笑到最后，关键看谁能坚持下去。中国这些年的发展已经证明，任何外部的封锁和打压，都只能让我们变得更加强大。
