SSA800的光源、物镜、双工件台、对准/测量系统、控制系统/软件等核心部件与子系统高度自主，核心技术与供应链牢牢掌握在自己手里。
国产下一代DUV光刻机SSA900预计2027年量产，多重曝光稳定支持14nm，理论可覆盖7nm等效制程，是成熟制程自主化的收官之作。届时成熟制程将全覆盖，90nm→28nm→14nm形成完整梯队。
要知道，28nm及以上制程出货占比70%～73%，核心应用于电源管理、LED驱动、射频、工业控制、车规基础芯片等领域，意味着我国部分关键芯片应用不再被“卡脖子”。
相信国产高端EUV光刻机，我们不用等太久。
（备注：以上内容仅代表个人观点，数据来源于网络仅供参考）
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