美国最怕的事情发生了！81岁国产芯片设备巨头中微公司董事长尹志尧，放弃美国籍，恢复中国籍，带队攻克2纳米刻蚀机！外媒：“在刻蚀这个核心环节，中国已经坐上全球牌桌！” （阅读前请点个赞，点个关注，主页有更多你喜欢看的内容） 2025年4月，中微公司年度报告正式披露，尹志尧已放弃美籍恢复中国籍，为了依法办理相关税务，2026年1月8日他更是公告，计划减持不超过29万股股份，这可是实打实的成本承担。 要知道他曾是硅谷半导体界的顶尖大佬，在英特尔、泛林半导体等巨头深耕数十年，手握60余项核心专利，是现代等离子体刻蚀技术产业化的重要推动者，在美国早已功成名就。 可60岁那年，他偏偏带着15人核心团队毅然回国，在上海创办中微公司，就是憋着一口气要让中国拥有自己的高端刻蚀机，如今81岁高龄再以中国籍身份带队冲刺2纳米，这份家国情怀和实干精神，比任何豪言壮语都更有力量。 他口中的“2纳米刻蚀机”，同样是突破了物理极限的硬核成果，刻蚀机就像在指甲盖大小的硅片上“雕刻城市”的精密工具，光刻机画好线，最终能不能刻出来、刻得精准，全看它的本事。 2纳米制程更是把精度推向极致，线宽接近原子尺寸，误差要控制在0.02纳米以内，相当于头发丝直径的三十万分之一，还要适配复杂的GAA环绕栅极结构。 尹志尧团队不仅啃下了这块硬骨头，还创下了业界首创的0.2埃刻蚀精度——这相当于硅原子直径的十分之一，是头发丝直径的500万分之一，在200片硅片的重复性测试中，双反应台刻蚀速度差别远小于1%，稳定性达到国际顶尖水平。 更关键的是核心零部件自主可控率已超90%，2025年前三季度实现100%自主替代，连最难啃的真空泵密封件都换成了国产产品，彻底摆脱了对国外供应链的依赖。 这份成就的背后，是中微公司二十余年的卧薪尝胆，是一步一个脚印的技术迭代。 2007年，成立仅三年的中微就研制出中国第一代介质刻蚀机，效率比同类国外产品高出30%，一举打破国际垄断；2018年率先突破5纳米刻蚀技术，成功打入台积电产线，让国际巨头不得不正视。 2025年3纳米刻蚀机完成验证，独创的双反应台设计大幅提升生产效率，稳稳跻身全球第一梯队。 2024年公司营收同比增长44.73%，刻蚀设备收入增长超54%，人均销售突破400万元，各项营运指标已达到国际先进半导体设备企业水平。 甚至累计申请专利超3000项，80%是发明专利，仅光刻蚀机控制系统的算法专利就有147项，每一项都是团队啃出来的硬骨头，让中国刻蚀设备全球市场份额从5%飙升至30%，硬生生从美国泛林、应用材料等巨头手中抢下阵地。 尹志尧恢复中国籍的深意，同样戳中了美国封锁的要害。 美国早就搞起了“禁人令”，明确规定美国公民或永久居民未经许可，不得参与中国先进制程半导体研发，试图通过掐住“人才大脑”阻断中国技术进步。 而尹志尧的选择，恰恰拆了这根“紧箍咒”，从此中微的战略决策、技术攻关再也不用看美国脸色，2纳米刻蚀机的研发能彻底甩开膀子干。 这也让美国的封锁逻辑不攻自破：当中国企业核心能力已站稳全球第一梯队，当美国的规则反而成为“外部干扰”，这种用国籍、身份控制技术流向的策略，只会倒逼中国加速自主创新。 如今中微的刻蚀机不仅用于5纳米量产，3纳米技术并行推进，2纳米更是完成关键突破，已获台积电认证并与长江存储深度合作，缺陷率控制在0.01%以下，实实在在打破了“中国造不出高端刻蚀机”的偏见。 要知道，全球半导体刻蚀机市场长期被美国泛林、日本东京电子、美国应用材料垄断，三者合计占比达86%，中微能以3%的市场份额跻身全球第四，成为唯一进入第一梯队的中国企业，本身就是奇迹。 而2纳米刻蚀机的突破，意味着中国在芯片制造最核心的设备环节，真正拥有了话语权，再也不用看别人脸色采购天价设备，再也不用担心被随时断供。 更打脸的是，美国企业因失去中国市场陷入困境，应用材料甚至要通过韩国子公司迂回出货，而中微的薄膜设备，2025年前三季度收入暴涨1300%，形成“一涂一刻”的组合拳，从单一设备商向平台型企业转型，让美国的制裁彻底失灵。 尹志尧和团队的突破，是中国半导体产业自主创新的缩影，是“卡脖子”清单变成“攻坚清单”的生动实践。 他81岁高龄仍坚守研发一线，每周亲自审核实验数据，带领团队突破物理极限、工艺窗口极限、设备协同极限，这份坚守和担当，正是中国科技工作者的精神写照。 美国越是封锁，我们越要自强；越是打压，我们越能凝聚力量。 如今在刻蚀这个核心环节，中国已经坐上全球牌桌，未来还会在更多高端领域占据一席之地。 任何企图用技术封锁阻挡中国发展的势力，终将被历史洪流淹没。 对此你还有什么想说的？欢迎在评论区留言讨论！ 参考信源：21世纪经济报、观察者网、证券时报网
