半导体科技巨头奕斯伟重投武汉！ 2026年1月9日，武汉东湖高新区官宣半导体巨头奕斯伟旗下硅材料基地项目（一阶段）完成备案，项目总投资25亿元并于当月启动建设。作为奕斯伟总投资125亿元的武汉硅材料基地核心组成部分，该项目选址东湖高新区未来城科学岛，占地约310亩，专注生产12英寸集成电路先进制程硅单晶抛光片及外延片，广泛适配逻辑芯片、闪存芯片、图像传感器等关键领域 。 项目建成后将形成50万片/月的产能，助力奕斯伟合计月产能突破170万片，进一步巩固其国内12英寸大硅片头部地位，同时就近服务华中地区客户并辐射长三角、珠三角市场，为我国半导体产业链关键材料自主化提供支撑。
