光刻产业链之核心标的在光刻机与光刻胶国产化加速的背景下，一批公司正从不同环节取得关键突破。1. 赛微电子：从使用者到布局者，MEMS芯片的工艺开发与晶圆制造。公司近期以不超过6000万元投资光刻机公司“芯东来”，参股不超过11%，正式切入光刻机整机赛道。虽然公司明确自身是光刻胶的使用方而非制造商，但此次投资标志着其向上游核心设备领域进行战略卡位，与自身制造业务形成潜在协同。2. 南大光电：高端光刻胶的稳定供货商，先进前驱体材料、电子特气和半导体光刻胶。公司核心产品ArF光刻胶已建成50吨/年的产能。公司在互动平台表示，该产品已在下游客户形成连续稳定供应，2024年相关收入已突破千万元。这标志着国产高端光刻胶在客户端取得了实质性进展。3. 彤程新材（通过子公司北京科华）：光刻胶全品类领军者，通过子公司北京科华微电子深耕半导体光刻胶领域。公司在行业会议上披露，已实现KrF光刻胶的进口替代并大批量稳定供货，同时I线光刻胶完成全品类布局。其技术团队持续研发，在改善光刻胶图形缺陷方面拥有多项专利。公司正致力于构建从上游树脂到光刻辅助材料的全产业链体系。4. 苏大维格：并购切入芯片制造“上游的上游”，微纳光学产品、激光直写光刻设备。公司近期公告，拟以5.1亿元收购常州维普51%股权。标的公司主营光掩模（掩膜版）缺陷检测设备，这是芯片制造前道环节中技术壁垒极高、国产化率极低的设备。此次收购将使其业务从掩膜版制造设备，延伸至掩膜版质量检测领域，协同效应明显。5. 茂莱光学：光刻机核心光学部件的突破者。精密光学器件、镜头及光学系统的研发制造。作为光刻机光学系统的重要供应商，公司产品已应用于i线光刻机并实现量产。根据机构研报，公司已对更先进的深紫外（DUV）光刻领域进行投入研发，并规划了三年项目建设。公司是光刻机国产化进程中，上游核心部件突破的关键企业之一。从南大光电、彤程新材在高端材料端的稳定供货，到茂莱光学在核心部件上的持续研发，再到赛微电子、苏大维格通过投资并购进行产业链延伸与整合。这些进展共同勾勒出国产替代从点到链的深化路径。
