中国科学家首次利用冷冻电子断层扫描技术揭示光刻胶分子结构,为提高芯片制造精度开辟

文哥很上进 2025-10-26 07:21:31

中国科学家首次利用冷冻电子断层扫描技术揭示光刻胶分子结构,为提高芯片制造精度开辟新路径。 近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者利用冷冻电子断层扫描技术,在全球首次解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构。这一突破解决了长期以来困扰半导体行业的“黑匣子”难题,为优化光刻工艺提供了关键依据。该技术不仅能显著减少光刻缺陷,还能大幅提高芯片良率,尤其是在7纳米及以下先进制程中表现尤为突出。通过这项创新,中国科学家不仅推动了国内芯片制造业的发展,也为全球半导体技术进步贡献了重要力量。这项成果发表在《自然·通讯》杂志上,展示了中国在高端科技领域的实力和创新能力。

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