新凯来→中国版阿斯麦! 芯世界 鑫选择，新凯来核心标逻辑解析！
一、事件驱动
10月15日至17日，第二届湾区半导体产业生态博览会（湾芯展2025）将在深圳会展中心盛大启幕。本届展会以“芯启未来，智创生态”为主题，芯片设备新秀新凯来将发布重磅新品（新闻来源：证券时报）
以 “芯启未来，智创生态” 为主题的2025湾区半导体芯片展（湾芯展），将于10月15日至17日在深圳福田会展中心举办。深圳市相关官员公开确认，本土半导体企业新凯来将参展，并会“给大家带来惊喜”。（新闻来源：第一财经）
二、产业链机遇：新凯来合作伙伴受益
新凯来国产替代芯片之光
三年破局，国产替代半导体设备跑出加速度
新凯莱：杭州六小龙之后，深圳孕育的一条巨龙正在成形，华为自建芯片厂，半导体设备新贵，半导体设备领域后起之秀，深圳名片，深圳国资委提供财力保障，华为提供技术支持
深圳市相关官员公开确认，本土半导体企业新凯来
将参加下周召开的“湾芯展”，并“给大家带来惊喜”
与新凯来有合作关系的上市公司备受市场关注
利和兴：新凯来精密结构件和测试平台供应商
至纯科技：新凯来湿法清洗设备核心供应商
新莱应材：新凯来关键零部件核心供应商
国林科技：新凯莱ALD/CVD工艺清洗环节提供设备
凯美特气：子公司获ASML子公司供应商认证
深纺织：与新凯来同一实控人
冠石科技：与新凯来合作设计掩膜版技术
奥普光电：间接向新凯来提供光刻机曝光系统
同惠电子：新凯来供应商之一
强力新材：子公司是国内唯一ACF厂商
波长光电：具备光刻机大孔径光学镜头提供能力
三、新凯来核心标逻辑解析
利和兴：公司为新凯来提供精密结构件和测试平台等产品。这些精密结构件和测试平台是半导体设备制造中不可或缺的组成部分，随着新凯来产品线的扩展，利和兴有望获得更多订单。
公司半导体主要业务为半导体封测装备、夹治具、精密零部件的研发、生产和销售。公司客户新凯来从事光刻机相关业务，公司非常重视与客户的关系以及产业合作机会；公司为该客户提供精密结构件和测试平台等产品
公司作为设备制造厂商， 主要服务于信息和通信技术等领域客户，主要应用领域为高频微波通信、 各种5G终端设备及无线通信设备等；客户包括华为、 新凯来、摩尔线程、荣耀、 比亚迪、 中兴通讯、 维谛技术、 维信诺、 浪潮信息、蓝思科技、福日电子等知名企业。
至纯科技：新凯来+长江存储；新凯来湿法清洗设备核心供应商，
多重曝光技术：公司与新凯来联合申请SAQP技术专利，提供湿法清洗设备SAQP工艺中的光刻胶清洗环节，适配7nm/5nm先进制程芯片生产
清洗设备：深耕半导体高纯系统+晶园清洗两大赛道，中国半导体国产化替代重要参与者。湿法清洗设备已经切入中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、华润、燕东、台湾力晶等一线用户；
公司围绕集成电路晶圆制造和先进封装领域为客户提供制程设备、高纯工艺设备和系统以及相关的电子材料和服务。至纯科技：提供高纯工艺系统整体解决方案（含高纯气体供应、化学品输送设备），与长江存储签署长期供货协议，为战略合作伙伴。
新莱应材：新凯来的重要供应商之一，公司专注于高纯及超高纯洁净材料，为新凯来提供半导体设备的关键零部件，如超高洁净管路系统、真空阀门等。
据公开信息，2024年三季度，新莱应材因新凯来订单增加，相关业务规模达8000万元。2024年，新莱应材已向新凯来供应价值数千万元的半导体设备零部件。
国林科技：新凯来+并购重组+光刻机；拟现金收购凯涟捷91.07%股权 预计构成重大资产重组;公司是半导体级臭氧设备独家供应商，为新凯莱ALD/CVD工艺清洗环节提供设备，其臭氧发生器浓度控制精度达±1ppm，适配5nm制程晶圆清洗，良率提升至98.5%。
多重曝光技术：SAQP工艺涉及大量光刻胶请洗，公司半导体级清洗设备适配光刻胶残留去除需求，技术要盖28nm以下制程
清洗设备：公司有望成为半导体清洗设备国产替代稀缺标的。公司用于半导体行业的高浓度臭氧发生器和高浓度臭氧水设备技术取得突破，满足半导体行业应用需求。股票[超话]
