荷兰估计要难受了，中国有了自己的光刻机！全国首台国产商业电子束光刻机在杭州“出炉”，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。 在半导体产业格局剧变的背景下，中国科研团队于杭州城西科创大走廊取得重大突破，全国首台国产商业电子束光刻机“ 羲之 ”完成应用测试并投入市场。 这台由浙江大学余杭量子研究院自主研发的设备，以0.6纳米精度和8纳米线宽，为量子芯片研发提供了关键支撑。 其命名源自书法家王羲之，寓意在纳米尺度实现精妙“ 笔法 ”，通过高能电子束直接在硅基材料上“ 书写 ”电路，彻底摆脱传统掩膜版限制。 该设备的问世打破了持续多年的技术封锁，此前受国际出口管制影响，中国科学技术大学、之江实验室等顶尖机构长期无法获取同类设备，导致量子芯片研发进程受阻。 如今“ 羲之 ”定价低于国际市场均价，已与复旦大学、华为海思等12家机构达成合作意向，其模块化设计支持灵活修改电路方案，特别适合量子芯片初期研发中的反复调试需求。 在突破路径上，中国展现出多维度创新策略。璞璘科技同期推出的10nm级纳米压印光刻机，通过普通环境作业和成本控制优势，已助力长江存储实现3DNAND闪存试产，良率指标达到国际主流水平。 荷兰政府的出口管制政策正面临双重困境，2025年4月实施的设备出口新规，将DUV光刻机出口审批门槛提高至1.5nm套刻精度，但中国市场对ASML设备的采购量已同比下降7.3%。 尽管ASML仍占据中国49%市场份额，但国产设备在存储芯片、功率半导体等领域的快速替代，使其感受到前所未有的竞争压力。 技术突破背后是系统性支撑。浙江省通过“ 需求清单-揭榜攻关-全程陪跑 ”模式，打通实验室到产业化的转化通道，仅2025年上半年就推动9个光刻机相关项目实现产业化。 国家大基金三期3440亿元注资中，52%投向光刻机及配套材料领域，上海、深圳等地同步提供最高4000万元设备采购补贴，形成政策组合拳。 国际产业格局正在发生根本性转变。当ASML仍执着于EUV技术迭代时，中国已构建起电子束、纳米压印、DUV等多技术并行的产业生态。 这种差异化竞争策略不仅规避了技术封锁，更在量子计算、新型存储等前沿领域建立先发优势。全球半导体市场或将迎来“ 技术路线多元化 ”的新时代，而中国正成为这场变革的关键推动者。
