半导体设备是芯片制造的“母机”，长期被海外巨头垄断，是国产替代的核心攻坚领域。近年来，国内设备企业在刻蚀、沉积、清洗等核心设备领域持续突破，订单量爆发式增长，国产化率不断提升。
北方华创：国内唯一覆盖前道90%以上工艺的平台型设备龙头，产品涵盖刻蚀、薄膜沉积、清洗、热处理、离子注入等全环节设备。公司14nm设备实现量产，5nm设备进入验证阶段，深度绑定中芯国际、长江存储等头部晶圆厂，国内晶圆厂采购份额约35%，订单已排至2027年下半年。作为半导体设备的“全能选手”，北方华创是国产替代进程中确定性最强的核心标的。
中微公司：全球第五大刻蚀设备商，国内唯一实现5nm/3nm先进制程刻蚀设备量产的企业，CCP刻蚀设备成功进入台积电3nm产线。公司MOCVD设备全球市占率超60%，在碳化硅、氮化镓等第三代半导体领域占据绝对领先地位。凭借顶尖的技术实力，中微公司成为先进制程设备国产替代的核心标杆。
拓荆科技：国内薄膜沉积设备龙头，是国内唯一实现PECVD、ALD、SACVD高端设备量产的企业。公司PECVD设备国内市占率超30%，覆盖14nm逻辑芯片与128层3D NAND，是长江存储的核心供应商，充分受益于存储芯片扩产带来的设备需求增长。
华海清科：国内CMP（化学机械抛光）设备唯一龙头，打破海外垄断，产品进入中芯国际、长江存储等头部晶圆厂，填补了国内CMP设备的空白，是半导体设备国产化的重要突破者。
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