外媒:中国精准突破光刻胶瓶颈,剑指美日垄断 在半导体自主化战略中,中国正将突破

英文头条 2026-03-16 19:03:12

外媒:中国精准突破光刻胶瓶颈,剑指美日垄断 在半导体自主化战略中,中国正将突破重点从泛化目标转向关键"卡脖子"材料,光刻胶成为新的主攻方向。光刻胶是光刻工艺中将微观电路图案刻蚀到硅片上的核心光敏化学品,目前市场高度依赖美国和日本供应商。 光刻胶按曝光波长分为宽带UV、G线、I线、KrF、ArF、EUV及电子束等类型,其中KrF、ArF和EUV属于最先进制程所需,技术壁垒最高,也是中国目前最薄弱的环节。

0 阅读:379

评论列表

风随悦动

风随悦动

6
2026-03-19 12:12

这才哪儿到哪儿,我们的量子科技还没公布呢。

斜阳漫步

斜阳漫步

2
2026-03-17 11:28

是来露个脸?

风中强子

风中强子

2
2026-03-20 01:46

吃饱了撑的!

用户13xxx27

用户13xxx27

1
2026-03-17 12:41

到底是突破哪个类型?不知在讲什么

英文头条

英文头条

感谢大家的关注