高市还是太嫩了点， 以为捏着九成高端光刻胶市场，把10天审批拖到90天，就能让咱们的光刻机变废铁，想太多了。 2025年年底，日本经济产业省的一则公告让半导体行业格外关注，他们宣布加码对华光刻胶出口管制，把原本10天就能办完的i线光刻胶审批流程，硬生生拉长到了90天。 不仅如此，此前他们还把ArF、KrF这类高端光刻胶纳入出口管制清单，两度削减对华配额，累计减少20%-30%。 做出这一系列决策的背后，绕不开日本政坛的关键人物高市早苗，她显然是想借着日本在高端光刻胶市场的垄断地位，给中国半导体产业使绊子，甚至觉得靠着这手操作，就能让咱们的光刻机变成没用的摆设。 但说实话，高市还是太嫩了点，她显然低估了中国半导体产业的突围能力，也忘了如今的时代早就不是日本能靠技术垄断拿捏别国的时代了。 要弄明白这件事的来龙去脉，首先得搞清楚光刻胶和光刻机到底是什么关系，这其实一点都不复杂。 光刻机是半导体芯片制造的核心设备，作用是把芯片的电路图案精准转印到硅晶圆上，而光刻胶就是涂在硅晶圆表面的特殊感光材料，光刻机的图案转印必须依靠光刻胶才能完成，没有合格的光刻胶，光刻机确实没法正常工作。 也正是因为这种紧密的关联，光刻胶才成了半导体制造里的关键材料，而在高端光刻胶领域，日本企业确实占据着绝对的垄断地位。 根据国际半导体产业协会的相关数据，全球高端的ArF光刻胶市场，日本企业占比87%，KrF光刻胶更是超过90%，而最顶尖的EUV光刻胶，仅日本信越化学和JSR两家企业，市场占比就高达95%。 咱们国内的晶圆厂此前确实高度依赖进口日本光刻胶，这也是高市早苗等人觉得能卡咱们脖子的底气所在。 日本这次选择在i线光刻胶的审批上动手脚，看似是针对中低端制程，实则是想从产业链上游慢慢收紧对中国的供应。 要知道，i线光刻胶虽然主要用于成熟制程，但却是国内晶圆厂的刚需，审批周期大幅拉长，会直接影响供货效率，进而干扰工厂的正常生产。 除此之外，日本的光刻胶龙头企业也配合着政策行动，信越化学在2025年12月30日宣布对中国KrF光刻胶新订单全面停止，既有合约的交期也从6个月延长到8个月，东京应化和JSR也大幅下调了高端ArF胶的审批通过率，基本不接新订单。 日本之所以敢这么做，也是有先例的，2019年他们就曾对韩国限制氟化氢和光刻胶出口，直接导致韩国DRAM芯片产量下降10%，生产成本翻倍，这也让他们觉得这套手段对中国同样管用。 但高市早苗等人显然打错了算盘，他们只看到了日本的垄断优势，却没看到中国这些年在光刻胶领域的自主研发和突破。 其实早在日本加码管制之前，国内的企业和科研机构就已经开始布局光刻胶的国产替代，而日本的封锁措施，反而进一步加速了这一进程。 在KrF光刻胶领域，彤程新材的产品良率已经达到95%以上，不仅拿下了长江存储的年度大单，还成为了台积电的二级供应商；容大感光的KrF产品在中芯国际28纳米产线上测试，良率达到93.7%，已经进入量产阶段。 而在技术难度更高的ArF光刻胶领域，南大光电走在了国内前列，这家企业是国内唯一实现ArF光刻胶规模化量产的企业，宁波的50吨生产基地满负荷运转，产品通过了中芯国际28纳米制程的验证，正式进入批量供货阶段，良率稳定在92%以上，甚至针对14纳米工艺的ArF光刻胶也通过了验证，成本还比进口产品低15%。 除了光刻胶成品的突破，咱们在核心原材料上也打破了国外垄断。光刻胶的感光度和分辨率由光引发剂决定，这种材料此前国内依赖度超过95%，全部靠从美日韩进口。 而湖北三峡实验室历经三年研发，成功攻克了G/I线光刻胶用光引发剂的制备技术，各项指标和国外进口产品持平，随后湖北兴福电子收购了这项技术，启动了产业化项目建设，投产后将成为湖北第一条光刻胶用光引发剂生产线，这也让国产光刻胶摆脱了“卡脖子”的关键一环。 如今国内的晶圆厂也在主动推进国产光刻胶的测试和使用，中芯国际已经把40%的光刻胶采购量转向国产产品，长江存储、华虹等企业也在逐步切换本土光刻胶，实测良率都能保持稳定，这意味着国产光刻胶已经从实验室真正走到了生产线。 现在来看，日本的光刻胶管制措施，不仅没有达到让咱们光刻机“变废铁”的目的，反而让国产光刻胶的替代速度不断加快。 日本想靠着九成的高端光刻胶市场份额拿捏中国，最终只会倒逼咱们更快实现全产业链的自主化。说到底，时代变了，靠技术封锁阻碍别国发展的老路子，早就行不通了。
