新凯莱的“惊喜”，会是这些。光刻机综合研发形势一片大好，2028年量产28nm很有希望
新凯莱10月15日至17日举办的“湾芯展”上可能带来多项“惊喜”，主要是测试仪器、先进制程配套。
例如超高速实时示波器，子公司“万里眼”做的，性能提升500%，对标国际头部品牌。填补国内高端电子测量仪器空白的关键突破。很可能最大惊喜是这个。
新凯莱还将推出薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节的设备，如EPI外延沉积设备（峨眉山）、ALD原子层沉积设备（阿里山）、刻蚀设备（武夷山）。
还有自主研发的13类量检测产品，缺陷检测或尺寸量测类设备，进一步完善设备生态。
DUV光刻机是别的单位做，新凯莱是做先进制程的配套仪器。
由于近来的一些进展，我也敢对国产光刻机报喜了，形势一片大好。2028年实现28nm量产，这就是决定性的突破。一旦28nm量产实现可用的良率，就说明国产芯片制造体系闭环了，终于可以高速迭代了，后面14nm、10nm、7nm都会比较顺。
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青崧
7纳米都量产出来了，还28年量产28nm瞎扯犊子
用户10xxx40 回复 10-14 15:08
那不是国产设备造的，纯国产28nm2028年能搞出来就不错了
上善 回复 10-14 15:38
中芯用阿斯麦机子做出来
平凡的世界
duv镜头euv镜片最难！我创新的技术：1、在A液体中，滴入高温玻璃液，让玻璃液漂浮（可旋转）或悬浮或下沉（自由或旋转、A液体足够深）；这样可能让接触A液体的玻璃表面足够光滑。2、任何方法制造的光滑镜面，先冷却，后在真空环境下让反射或透光面被激光微秒加热、导致表面几层原子熔化后，用静置与旋转相结合的方法、在冷却后，重复前面熔化冷却步骤，利用表面张力向心力让镜面平整度到达或接近原子级，加上原子级镀膜技术，则镜面能满足高精度需求；冷却可以自然冷却也可以气液冷却。3、单面原子级光滑的玻璃，可切割打磨粗面后背靠背焊合，利用分子扩散均匀接触面，制成双面原子级光滑的镜头或镜片。本人一介草民，没学过镜面处理知识，看见光刻机光学模组久久无法突破，一时技痒，竟然不怕献丑说出所想。
用户45xxx09 回复 10-15 03:53
一介草民没学过还懂得那么多？鱼不是这样钓的，你也钓不出什么。
用户10xxx38
艹，2028年量产3纳米！
神猫大侠
这不是白裤衩，是没裤衩
用户10xxx82 回复 10-15 01:57
哈哈，从同行做芯片朋友处得知28纳米的光刻机有十年的，还不能满足生产需要，慢慢来，
畅想未来
这小编孤陋寡闻，九月末就出消息中芯国际正在调试国产浸润式duv可以做到5-7nm，还2028量产，逗我呢。明年上半年就可以量产了！
东海碧泉
2028年才实现28nm量产吗？[狗头]
我心如水vivo 回复 10-14 14:39
如果是2028年，那也有可能2030才实现！
用户51xxx86
不是已经交付一台了么
溯洄
28纳米国产设备已经在中芯试生产了，还28年，
伍亮艺术陶瓷
2027年量产28nm，不能再晚了
月夜静荷
28纳米国产光刻机九月份已经全线跑通了
lwmer102
一本正经的胡说八道
海归高科技人才
设备没定型，没必要量产，配套的EDA也没有，配套的华大九天也不适配国产DUV，我国芯片整个还要10以上才能闭环！SIP也没几家公司做，要升级IC产业，还有很常的路要走，在IC设计我国人才太少了！