重大突破，中国芯片终于初见曙光！ 浙江大学立大功了！众所周知，要制造7nm以下芯片必须用EUV光刻机，而 EUV光刻机全球只有荷兰 ASML一家能制造，但美国禁止向中国销售。近日，浙江大学另辟蹊径，采用与 EUV 完全不同的技术，开发出电子束光刻机。该技术用电子束直接在硅片上进行光刻，无需光刻技术必须使用的光掩膜版，且精度低于1 纳米，超过目前全球尖端的 2 纳米水平。这台 EBL 电子束光刻机取名“羲之”，雕刻精度可达 0.6 纳米、线宽 8 纳米，接近世界顶级水平。目前，样机已进入调试阶段，虽然这种光刻机无法大规模生产芯片，但投产后可制作量子芯片特种芯片。美国越封锁，我们越进步。中国在亟待解决的芯片技术领域，终于取得突破，也再次证明了中国的崛起势不可当。 “羲之”这名字取得妙啊，王羲之笔锋能入木三分，这台机器刻硅片能到0.6纳米。实验室里调试的工程师说，电子束就像拿原子当刻刀，在硅片上“写”电路，比EUV光刻机少了好几道工序。以前造芯片得先做光掩膜版，那玩意儿比黄金还金贵，一块版子动辄上千万，还得配套超洁净车间。现在电子束直接画，省了这道坎，等于给特种芯片开了条近路。 有人说这机器不能大规模产手机芯片，用处不大？懂行的都知道，量子芯片、雷达芯片这些高精尖玩意儿，压根不用像手机芯片那样一次造几百万颗。去年合肥量子实验室就卡过脖子，进口电子束设备调试一次要等三个月，国外工程师还带着保密协议来，核心参数都不让碰。“羲之”要是量产了，咱们自己的量子计算机就能用上纯国产“心脏”，这意义可比多造几亿颗手机芯片大多了。 ASML的EUV光刻机有10万多个零件，30多个国家提供技术，美国拿捏着其中最关键的光源和镜片。他们卡我们脖子的套路，就是让你看得见摸不着。前年中芯国际订的EUV，钱付了两年，到现在还在荷兰港口趴着呢。浙大这波操作，等于在另一条赛道上修了座桥，虽然暂时跑不了货车，但能过导弹、过火箭，专解燃眉之急。 实验室老教授跟我聊过，三年前他们连电子枪的稳定性都搞不定，每天泡在无尘车间，饿了啃面包，困了就在椅子上眯会儿。有次调试到凌晨，电子束突然稳定输出，整个团队当场欢呼，有人眼泪都下来了。这种硬骨头，不是靠嘴炮能啃下来的，得靠显微镜下的较劲，靠小数点后几位的死磕。 现在全球都在抢量子计算的赛道，谁先搞定量子芯片，谁就掌握下一代科技的钥匙。“羲之”0.6纳米的精度，刚好能满足量子比特的刻蚀需求。这就像别人还在琢磨怎么把蒸汽机造得更精致，我们已经摸到了电力的门。别小看这一步，当年原子弹研发，也是从一堆看似不相关的技术突破里攒出来的。 美国商务部今年又加了28家中国实体进清单，芯片设备、材料、软件全卡。可他们忘了，中国人最擅长在绝境里找出路。华为海思从设计突围，中芯国际把14nm做到量产，现在浙大在设备上撕开个口子。这些突破凑在一起，就是一张慢慢织密的网。 当然，也不能盲目乐观。电子束光刻效率目前还跟不上量产需求，要用到手机、电脑这些民用领域，还得接着攻关。但这就像当年两弹一星，先解决有没有，再解决好不好。至少现在，我们不用再看别人脸色才能搞尖端研究了。 实验室墙上有句话：“仪器是科研的腿。”以前这条腿长在别人身上，想走快一步都难。现在“羲之”站起来了，哪怕暂时走得慢，也是咱自己的腿。这才是最让人提气的——封锁堵不死中国人，只会逼出更多“羲之”，逼出更多不服输的突破。
