上海光机所绕过二氧化碳激光，近期成功开发出 LPP - EUV 光源，波长仅13.5纳米，已经达到国际领先水平！光刻机的核心技术主要集中在极紫外光（ EUV ）、高精度光学系统和纳米级位移定位校准技术。波长13.5纳米的极紫外光，是制造5nm以下芯片的关键，也就是它能够在硅片上刻下更细的沟纹。
台积电创始人张仲谋在接受纽约时报采访时曾说过：美国、荷兰、日本、韩国以及台湾控制
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上海光机所绕过二氧化碳激光，近期成功开发出LPP-EUV光源，波长仅13
小斌斌说科技
2025-08-11 21:13:36
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阅读：1507
鸿飞
说了虽然效率高，但是总功率不够，离实用还有遥远的距离。 美国人爱大力出奇迹，板砖飞上天。他核聚变都是激光照。物镜很大精度近乎神级也是巨大的难点，采用离子刻蚀抛光加工，这也是核心技术。 中国人玩原理，玩论文那是溜得猴一样，玩耐心，迭代，精度确实差得有点多。需要时间去磨，不可能像写论文写科幻小说，今天早上写晚上就有了。
苏米 回复 08-13 08:29
您懂光刻[点赞]
路人甲 回复 08-14 20:03
玩耐心，迭代精度，差的有点多？鹅厂的网游，微信，阿里的淘宝，支付宝，网约车，抖音快手，那个不需要耐心，迭代，精度？不是擅长的领域，随便泼脏水，是吧！
jerryratchen
加油，加速！
anlexy
极紫外激光真实挺简单的，大学实验室就能做出来，不就是强光照射锡液滴吗？关键是后面的光学装置，世界上只有德国蔡司能搞定，而且是损失95%能量条件下勉强能用，国内能搞出来？呗牛皮不上税。
嶋発孳㿵 回复 用户10xxx55 08-13 15:59
滚远点
用户10xxx55 回复 08-13 14:52
在自媒体上早就出来了，懂？
平凡的世界
duv镜头euv镜片最难！我创新的技术：1、在A液体中，滴入高温玻璃液，让玻璃液漂浮（可旋转）或悬浮或下沉（自由或旋转、A液体足够深）；这样可能让接触A液体的玻璃表面足够光滑。2、任何方法制造的光滑镜面，先冷却，后在真空环境下让反射或透光面被激光微秒加热、导致表面几层原子熔化后，用静置与旋转相结合的方法、在冷却后，重复前面熔化冷却步骤，利用表面张力向心力让镜面平整度到达或接近原子级，加上原子级镀膜技术，则镜面能满足高精度需求；冷却可以自然冷却也可以气液冷却。3、单面原子级光滑的玻璃，可切割打磨粗面后背靠背焊合，利用分子扩散均匀接触面，制成双面原子级光滑的镜头或镜片。本人一介草民，没学过镜面处理知识，看见光刻机光学模组久久无法突破，一时技痒，竟然不怕献丑说出所想。
苏米 回复 08-13 08:32
你这想法30年前天文望远镜片就试过了，关键保持时间不够。
金木水火土
任重道远，路长且漫
龙骉看天下
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苏米
LPP的缺点是功率太小，要知道ASML的功率足足有50瓦，量产芯片时扛不住❗
鸿飞
而且有的是时间给你慢慢磨，2nm以下谁也没啥好招了。也到了瓶颈了。往后就是巨大的代价，性能却提升很有限，甚至更差，至少稳定性差了。何况现在是所谓的2nm。
琉璃
最重要的是光源
苏米 回复 08-13 08:30
几十万个零件没一个次要哒
A君
月经帖[哭笑不得]
用户72xxx65
光刻机不是直接刻硅片的吧
苏米 回复 08-13 08:38
就是先用光烧掉光敏胶，然后蚀刻。 这道光得细锐才行❗所以7纳米以下必须请EUV极紫外光源出马，13.5纳米的光波长经光学浸水系统处理后才能刻6纳米、5纳米、4纳米、3纳米甚至2纳米的芯片。
用户17xxx98
还没成功就先吹牛逼。